Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST, Braunschweig, Germany;
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射制备的薄膜的比较研究
机译:退火温度对脉冲直流反应磁控溅射制备ZnO:Al薄膜性能的影响
机译:氧分压对使用SpeedFlo控制器进行脉冲直流反应磁控溅射制备的ZnO / Al薄膜性能的影响
机译:直流,脉冲和高电离脉冲功率磁控溅射制备反应溅射二氧化钛薄膜的研究
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究