公开/公告号CN1268782C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-08-09
原文格式PDF
申请/专利权人 新明和工业株式会社;
申请/专利号CN01119272.0
申请日2001-03-21
分类号C23C14/54(20060101);C23C14/32(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人魏晓刚
地址 日本兵库县
入库时间 2022-08-23 08:58:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/54 授权公告日:20060809 终止日期:20130321 申请日:20010321
专利权的终止
2006-08-09
授权
授权
2001-12-19
公开
公开
2001-11-14
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 原料粉末,蒸发源材料和用于离子镀的离子镀的制造方法,用于蒸发源材料的离子镀,阻气片及其制造方法
机译: ARC离子镀膜设备和ARC离子镀膜设备的蒸发源
机译: ARC离子镀膜设备和ARC离子镀膜设备的蒸发源