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具有多层器件结构的电阻式随机存取存储器(RRAM)

摘要

本发明公开了一种电阻式存储器单元。电阻式存储器单元包括一对电极和设置在这对电极之间的多层电阻切换网络。多层电阻切换网络包括一对碳掺杂层和设置在这对碳掺杂层之间的IV族元素掺杂层。每个碳掺杂层均包括掺杂有碳的氧化硅。IV族元素掺杂层包括掺杂有IV族元素的氧化硅。本发明也公开了一种制造电阻式存储器单元的方法。该方法包括:使用溅射在第一电极上形成第一碳掺杂层,使用溅射在第一碳掺杂层上形成IV族元素掺杂层,使用溅射在IV族元素掺杂层上形成第二碳掺杂层,以及使用溅射在第二碳掺杂层上形成第二电极。本发明涉及具有多层器件结构的电阻式随机存取存储器(RRAM)。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-26

    授权

    授权

  • 2016-01-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20140811

    实质审查的生效

  • 2015-12-30

    公开

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