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具有形成于脊上的选择性晶体管的集成半导体存储器

摘要

一种具有形成于脊上的选择性晶体管的集成半导体存储器(10)被揭露,在每个实例中其选择性晶体管(3)形成于一脊(4)上,在每个实例中该脊被设置在一绝缘层(11)上,第一源极/漏极区域(5)则设置在该脊的一侧向终端(A)的该绝缘层(11)上,且第二源极/漏极区域(6)设置在该脊(4)的另一侧向终端(B)的该绝缘层(11)上,以及该脊(4)的两个纵向侧(14)与该脊(4)的顶侧(15)以包含栅极介电层(9)与栅电极(16)的层次序而被覆盖。由此种设计,在该选择性晶体管(3)开着的状态下,可达到非常高的写-读电流,而在关掉的状态下,则可降低漏电流的发生。

著录项

  • 公开/公告号CN1288758C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-12-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 因芬尼昂技术股份公司;

    申请/专利号CN200310120119.4

  • 发明设计人 G·恩德斯;A·斯皮特泽;

    申请日2003-12-05

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人程天正

  • 地址 联邦德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-02-03

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-12-06

    授权

    授权

  • 2004-09-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-06-23

    公开

    公开

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