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InAs/InSb/GaSb/InSbⅡ类超晶格材料制造方法及产品

摘要

一种InAs/InSb/GaSb/InSb II类超晶格材料的制造方法及由此得到的产品,该方法包括:准备衬底,作为外延层的载体;对所述衬底进行除气、脱氧处理;在所述衬底上外延生长缓冲层和80‑100个周期的InAs/InSb/GaSb/InSb结构的材料。本发明不需要任何元素浸泡过程,且通过插入InSb层而不是通过形成InSb界面来补偿应变,从而可以降低InAs/GaSb II类超晶格材料MBE外延生长的复杂度;插入型InSb层可精确控制InSb生长厚度,没有元素浸泡过程可以降低V族元素腔内残留,减少InAs层生长时Sb原子的掺入,以及InSb和GaSb层生长时As原子的掺入。

著录项

  • 公开/公告号CN105932106B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201610361608.6

  • 申请日2016-05-26

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人任岩

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 10:05:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L31/18 变更前: 变更后: 申请日:20160526

    著录事项变更

  • 2018-01-02

    授权

    授权

  • 2016-10-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20160526

    实质审查的生效

  • 2016-09-07

    公开

    公开

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