蚀刻在玻璃基片类型的透明基片上沉积的层的方法

摘要

对具有导电性能的层(11)进行电化学蚀刻的方法，该层(11)是掺杂金属氧化物类型并且在玻璃类型的透明基片(10)上，该类型的透明基片(10)装备一可以在蚀刻之后被除去的掩模，该方法在于：将该层的至少一个蚀刻区域(13)与一导电溶液(20)接触，将一电极(30)浸入到该溶液(20)中并且将该电极(30)在离该区域(13)一距离(d)的对面设置，在该电极(30)和待蚀刻层(11)之间施加一电压(U)，其特征在于该电极具有一长形形状以便在该层的多个区域上沿该基片的宽度(l)进行蚀刻。