首页> 中国专利> 近源栅近漏栅分立控制型无掺杂场效应晶体管

近源栅近漏栅分立控制型无掺杂场效应晶体管

摘要

本发明涉及一种近源栅近漏栅分立控制型无掺杂场效应晶体管,通过采用不掺杂或掺杂浓度低的单晶硅衬底材料,利用近源栅电极、近漏栅电极两个彼此独立控制的栅电极,对比于普通有结和无结场效应晶体管,在避免掺杂工艺导致器件迁移率下降的前提下,一方面保持近漏栅电极处于高电位而使器件的漏电极一侧处于低阻状态,另一方面通过调节近源栅电极的电位来改变源电极一侧的阻值,进而实现器件的关断和开启。本发明有效地降低了有结型和无结型场效应晶体管所共同存在的栅极反向泄漏电流过大的问题,保证了器件的正常工作。

著录项

  • 公开/公告号CN103545375B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳工业大学;

    申请/专利号CN201310519246.5

  • 发明设计人 靳晓诗;刘溪;揣荣岩;

    申请日2013-10-29

  • 分类号

  • 代理机构沈阳智龙专利事务所(普通合伙);

  • 代理人宋铁军

  • 地址 110870 辽宁省沈阳市经济技术开发区沈辽西路111号

  • 入库时间 2022-08-23 10:02:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 29/78 授权公告日:20171027 终止日期:20181029 申请日:20131029

    专利权的终止

  • 2017-10-27

    授权

    授权

  • 2017-10-27

    授权

    授权

  • 2014-12-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20131029

    实质审查的生效

  • 2014-12-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20131029

    实质审查的生效

  • 2014-12-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20131029

    实质审查的生效

  • 2014-01-29

    公开

    公开

  • 2014-01-29

    公开

    公开

  • 2014-01-29

    公开

    公开

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