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一种三维封装芯片堆叠用金属间化合物键合方法及键合结构

摘要

本发明公开了一种三维封装芯片堆叠用金属间化合物键合方法及结构,所述方法包括对钎料和钎料两侧的金属凸点进行加热处理以进行钎焊反应形成金属间化合物的过程,所述加热处理时,在所述钎料两侧的金属凸点之间形成温度梯度。利用所述方法制备的三维封装芯片堆叠用金属间化合物键合结构,所述金属凸点为单晶或具有择优取向时,所述形成的金属间化合物沿温度梯度方向具有单一取向。本发明键合时引入温度梯度促使金属原子发生热迁移,加速界面金属间化合物的形成、生长,显著提高键合效率;金属间化合物由温度相对较低的冷端向温度相对较高的热端连续生长,可有效避免形成的金属化合物中出现孔洞。

著录项

  • 公开/公告号CN104716059B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连理工大学;

    申请/专利号CN201510069934.5

  • 申请日2015-02-09

  • 分类号H01L21/60(20060101);H01L23/488(20060101);B23K1/00(20060101);

  • 代理机构21212 大连东方专利代理有限责任公司;

  • 代理人贾汉生;李馨

  • 地址 116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:02:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-20

    授权

    授权

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 申请日:20150209

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 申请日:20150209

    实质审查的生效

  • 2015-06-17

    公开

    公开

  • 2015-06-17

    公开

    公开

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