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一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法

摘要

本发明公开了一种光刻机工件台探测器最佳高度确定方法,工件台携带光电探测器在特定光强位置处沿光轴方向进行光强度探测器,通过迭代查找光强极小值,对应位置即为探测器最佳高度。该方法通过控制工件台沿光轴方法上采样间隔,使测量精度可以达到微米量级,测量方法简单、快捷,测量精度高。

著录项

  • 公开/公告号CN105116691B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201510591739.9

  • 发明设计人 刘卫静;廖志杰;邢廷文;林妩媚;

    申请日2015-09-16

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:58:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-11

    授权

    授权

  • 2015-12-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150916

    实质审查的生效

  • 2015-12-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150916

    实质审查的生效

  • 2015-12-02

    公开

    公开

  • 2015-12-02

    公开

    公开

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