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退火非掺杂磷化铟制备半绝缘衬底的方法

摘要

一种退火非掺杂磷化铟晶片材料制备半绝缘衬底的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)选用非掺杂磷化铟晶片材料;该非掺杂磷化铟晶片材料载流子浓度低于6×1015cm-3,迁移率大于4000cm2/V.s,并测试非掺杂磷化铟晶片材料中的位错团的密度,选用位错团密度低于5个/cm2的材料,以保证退火后材料的均匀性;(2)使用纯度为光谱纯以上的铁粉和纯度六个九以上的红磷以及磷化铟晶片材料一起放入石英管中,抽真空至1×10-2mmHg后用氢氧焰烧结密封;(3)石英管中的磷化铟晶片材料放置在样品架上,彼此隔离开以保证退火后材料的均匀性;(4)将装有磷化铟晶片材料、铁粉、红磷的石英管放入炉中退火。

著录项

  • 公开/公告号CN1265444C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-07-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN02150629.9

  • 发明设计人 赵有文;

    申请日2002-11-11

  • 分类号H01L21/324(20060101);H01L21/477(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路肖庄

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-01-07

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-07-19

    授权

    授权

  • 2004-08-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-26

    公开

    公开

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