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挥发性的二氢吡嗪基和二氢吡嗪金属配合物

摘要

本文描述了包含二氢吡嗪基阴离子的组合物,所述二氢吡嗪基阴离子可以作为6电子配体与范围广泛的不同金属配位,以产生用于ALD和CVD沉积的挥发性金属配合物。本文还描述了未去质子化的二氢吡嗪,其可以作为稳定化中性配体与金属配位。在一个实施方式中,使用所述组合物来直接液体注射递送金属二氢吡嗪基配合物前体至ALD室或CVD室中,用于沉积含金属薄膜,例如钌或钴金属膜。

著录项

  • 公开/公告号CN104342633B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 弗萨姆材料美国有限责任公司;

    申请/专利号CN201410363662.5

  • 申请日2014-07-28

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人吴亦华

  • 地址 美国亚利桑那州

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-04

    授权

    授权

  • 2017-06-30

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C07F 15/02 登记生效日:20170609 变更前: 变更后: 申请日:20140728

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-06-30

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C07F 15/02 登记生效日:20170609 变更前: 变更后: 申请日:20140728

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-03-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/18 申请日:20140728

    实质审查的生效

  • 2015-03-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/18 申请日:20140728

    实质审查的生效

  • 2015-02-11

    公开

    公开

  • 2015-02-11

    公开

    公开

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