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用LDMOS器件实现的电流采样电路

摘要

本发明公开了一种用LDMOS器件实现的电流采样电路,采样管和被采样管都为LDMOS器件,采样管设置在被采样管的中间区域,采样管的源区有效宽度由源区的N+区和栅极的接触宽度决定;在采样管的漏区漂移区中设置有耐压缓冲层,耐压缓冲层能够定义出和源区的有效部分对齐的有效漏区漂移区、同时不缩小整个漏区漂移区的环绕范围。本发明通过源区的有效宽度的缩小能提高电路的采样比,通过有效漏区漂移区和源区的N+区对齐的设置,能够使得采样管的源漏之间的寄生电阻和被采样管的源漏之间的寄生电阻成比例,能够高采样比的稳定性。本发明还能提高采样管和被采样管匹配度和稳定性,能减少电路占用面积并提高集成度。

著录项

  • 公开/公告号CN104714073B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201310695469.7

  • 发明设计人 金锋;苗彬彬;

    申请日2013-12-17

  • 分类号G01R19/00(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/08(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁纪铁

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 09:56:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-06

    授权

    授权

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R 19/00 申请日:20131217

    实质审查的生效

  • 2015-06-17

    公开

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