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磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备

摘要

一种磁控溅射真空室进气装置及使用该进气装置的磁控溅射设备,该磁控溅射真空室进气装置包括用于接收并混合气体的混气盒、将气体通入真空室内的进气盒以及连接两者的连接管,所述混气盒具有一个或多个进气管。该进气装置可提高气体进入真空室后分布的均匀性,可提高在通入混合气体时气体混合的效果;还可有效地降低在磁控溅射镀膜进气过程中气体对真空室内精密设备的冲击力,从而延长设备的使用寿命。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    授权

    授权

  • 2015-04-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20150105

    实质审查的生效

  • 2015-03-25

    公开

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