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用于直线型大面积等离子体反应器中均匀处理的气体输送和分配

摘要

本发明提供一种用于引入气体到处理腔室中的装置,所述处理腔室包含具有气体注入孔的一或多个气体分配管,所述气体注入孔可在需要通过气体注入孔更大气体传导的气体引入管的管段处尺寸更大、数目更多,和/或彼此间隔更紧密。具有较大气体注入孔的外部管可围绕每一气体分配管。气体分配管可流体连接到真空前极管道,以促进在制程循环结束时从气体分配管去除气体。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-11-09

    授权

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  • 2014-10-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20120913

    实质审查的生效

  • 2014-05-14

    公开

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