Chemical Vapor Deposition; Electric Potential; Silicon Solar Cells; Electrodes; Experimental Data; Plasma; Spatial Distribution; Theoretical Data; Thin Films; Transistors; Tables(data);
机译:大面积莲蓬头反应器中用于射频等离子体沉积的气流均匀性研究
机译:喷淋头等离子体反应器壁边界条件对射频等离子体沉积均匀性控制的影响
机译:大面积热线CVD反应器中工艺参数的优化,用于沉积具有高度均一材料质量的太阳能电池应用中的非晶硅(a-Si:H)
机译:新一代等离子体增强化学气相沉积反应器中薄的内在非晶硅通过薄的内在非晶硅钝化单晶硅钝化的均匀性和质量
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:大型反应器的电压均匀性研究,用于射频等离子体沉积
机译:用CaRs研究RF氮化物沉积等离子体的时间依赖性反应物温度和浓度