法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-12
专利权的转移 IPC(主分类):C11D 1/825 登记生效日:20170321 变更前: 变更后: 申请日:20121123
专利申请权、专利权的转移
2016-09-21
授权
授权
2014-07-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/825 申请日:20121123
实质审查的生效
2014-06-04
公开
公开
机译: 用于CMP抛光液的清洗液,使用该清洗液的清洗方法以及使用该清洗液的半导体基板的制造方法
机译: 含铂半导体装置的清洗液,使用该清洗液的清洗方法以及使用该清洗液的存储装置的制造方法
机译: 2一种化学清洗液废物处理系统,用于处理核电厂蒸汽发生器二次侧内部的化学清洗过程中产生的化学清洗液废物及其控制方法