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聚焦离子束系统及改进聚焦粒子束加工的方法

摘要

申请人已发现,使用等离子体源的离子束系统中由高能离子与中性气体分子之间的电荷交换性相互作用产生的活跃中性粒子到达样本。这些活跃中性粒子产生了离开束冲击点的二次电子。解决这个问题的方法包括在该等离子源下方的多个差分泵送室以减少使这些离子与气体相互作用的机会。

著录项

  • 公开/公告号CN103456588B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI公司;

    申请/专利号CN201310211268.5

  • 申请日2013-05-31

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人谭祐祥

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-07

    授权

    授权

  • 2014-01-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/08 申请日:20130531

    实质审查的生效

  • 2013-12-18

    公开

    公开

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