低缺陷化学机械抛光组合物

摘要

本发明提供了一种用于抛光含氧化硅的基材的低缺陷化学机械抛光组合物，该组合物包含以下成分作为初始组分：水、胶体二氧化硅磨料、以及如通式I所示的添加剂。