二次电子发射离子束的处理装置

摘要

一种高二次电子发射离子束的处理装置，它包括处理中心、高真空泵、低真空泵、氩气设备和PLC控制系统，通过在处理中心的真空箱内设置夹持平台和溅射靶，溅射靶位于离子源和夹持平台之间，通过夹持座将工件夹持于夹持平台上，高真空泵和低真空泵对真空箱进行抽真空处理，氩气设备向真空箱内冲入氩气，离子源发射离子束，溅射靶将离子束引导至工件表面形成导电膜，有利于控制离子束，在工件表面形成均匀的导电膜层，便于集中控制，操作简单方便。