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机译:聚焦镓离子束诱导的SiO2二次电子发射的蒙特卡洛研究
Univ Tokushima, Fac Engn, Tokushima 7708506, Japan;
scanning ion microscope; FIB; secondary electron emission; Monte Carlo simulation; SiO2; large band gap insulator; SCANNING ION; ENERGY-LOSS; SIMULATION; MATTER;
机译:聚焦电子束诱导的绝缘靶的二次电子发射-蒙特卡洛模拟研究
机译:从SiO2宏观毛细管的向后方向上的二次电子发射的蒙特卡罗计算
机译:蒙特卡罗模拟低电子束能量下硅中二次电子的发射位置,角度和能量分布
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