镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟

摘要

利用TR IM模拟中的蒙特卡罗方法计算了镓(Gallium)离子在Cu薄膜上的溅射产额。分析溅射产额对镓离子的数量、入射离子的能量和离子入射角度的依赖关系。