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一种精密电子工程用使用寿命长的单晶硅片

摘要

本实用新型公开了一种精密电子工程用使用寿命长的单晶硅片,包括单晶硅片本体,所述单晶硅片本体包括基底层,且基底层的外侧设置有第二防护层,同时,第二防护层包括纳米银涂层和氯磺化聚乙烯涂层,所述第二防护层的外侧设置有第一防护层,且第一防护层包括玻璃纤维层和铝箔层。本实用新型设置了包括玻璃纤维层和铝箔层的第一防护层,其中的玻璃纤维层可有效提高本硅片整体的耐高温性,铝箔层可提高本硅片整体的屏蔽性,设置了包括纳米银涂层和氯磺化聚乙烯涂层第二防护层,其中的纳米银涂层可提高本硅片整体的防辐射性,氯磺化聚乙烯涂层可提高本硅片整体的耐腐蚀性,通过以上结构的配合,有效提高了本硅片整体的使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN215551483U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海铂览智能科技有限公司;

    申请/专利号CN202120790282.5

  • 发明设计人 杜国佳;

    申请日2021-04-19

  • 分类号B32B9/00(20060101);B32B9/04(20060101);B32B15/20(20060101);B32B15/14(20060101);B32B17/02(20060101);B32B33/00(20060101);C30B29/06(20060101);H01L23/29(20060101);

  • 代理机构31328 上海助之鑫知识产权代理有限公司;

  • 代理人王风平

  • 地址 201713 上海市青浦区朱家角镇康业路901弄98号2层B区221室

  • 入库时间 2022-08-23 04:03:51

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