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籽晶清洗用置放结构及应用于锗单晶生长的籽晶清洗装置

摘要

本实用新型提供了一种籽晶清洗用置放结构及应用于锗单晶生长的籽晶清洗装置,该籽晶清洗用置放结构包括框架本体和多个限位凹槽,框架本体包括至少三个侧板,所述至少三个侧板均竖直设置,并且所述框架本体为采用所述至少三个侧板合围形成;所述多个限位凹槽均设置在所述侧板的顶部,用于盛放籽晶。该籽晶清洗用置放结构通过在侧板的顶部侧面上设置限位凹槽,能更大限度地将籽晶全部浸润在清洗液中,清洗较为彻底;同时还起到限位作用,避免籽晶之间产生磕碰,使得籽晶清洗更加彻底、安全。

著录项

  • 公开/公告号CN214736104U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 有研新材料股份有限公司;

    申请/专利号CN202022910260.6

  • 申请日2020-12-07

  • 分类号C23G3/00(20060101);C30B29/08(20060101);C30B15/36(20060101);

  • 代理机构11619 北京辰权知识产权代理有限公司;

  • 代理人金铭

  • 地址 100089 北京市海淀区北三环中路43号

  • 入库时间 2022-08-23 01:58:27

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