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一种基于多铁异质结构的磁畴壁写入单元

摘要

本实用新型公开了一种基于多铁异质结构的磁畴壁写入单元,包括:底电极层,连接脉冲电压源;压电层,由铁电材料制成,设置于底电极层上;顶电极层,设置于压电层上,包含若干连接脉冲电压源的顶电极;磁性层,与顶电极处在同一层,由铁磁性材料制成,连接赛道存储器;所述底电极层下还设置有衬底层,整个写入单元外还设有保护层,其中磁性层的铁磁性材料具有磁各向异性,且具有磁致伸缩特性。本实用新型利用逆压电效应和磁致伸缩的逆效应,实现高存储密度,低功耗的磁畴壁写入。

著录项

  • 公开/公告号CN212934164U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国计量大学;

    申请/专利号CN202021578883.1

  • 申请日2020-08-03

  • 分类号G11C11/22(20060101);

  • 代理机构33109 杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人尉伟敏

  • 地址 310018 浙江省杭州市江干区下沙高教园区学源街258号

  • 入库时间 2022-08-22 20:43:16

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