一种等离子体化学气相沉积工艺用基座

摘要

本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积工艺用基座，包括有金属基座、环形台阶和多个绝缘条块，每个绝缘条块的一端均具有呈台阶状的上搭接部，每个绝缘条块的另一端均具有呈台阶状的下搭接部，相邻二个绝缘条块的上搭接部与下搭接部分别搭接在一起；环形台阶的台阶面上均分别设有定位孔和位于定位孔两侧的导向孔，每个绝缘条块的底部均分别连接有对应插入定位孔和导向孔中的定位销和导向销。本实用新型在金属基座的四周设置环形台阶，并在环形台阶上设置首尾相搭接的多个绝缘条块，在实施等离子体化学气相沉积工艺过程中能够防止电弧的产生，且能够适应金属基座正常的受热膨胀，保证了等离子体化学气相沉积工艺的正常进行，保障了安全生产。