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一种双路共漏MOSFET芯片封装结构

摘要

本申请实施例公开了一种双路共漏MOSFET芯片封装结构,包括:正面设置至少两个源极和两个栅极的双路共漏MOSFET芯片本体,芯片本体上表面除去金属柱对应位置都设置有第一保护层,芯片本体左右侧面设置有第一保护层,设置有第一保护层的芯片本体设置在导电层上方,在导电层底面及左右侧面的第一保护层外围设置有第二保护层,本申请提供的实施例对MOSFET芯片本体进行塑封保护,可以防止晶圆裂片或损坏。

著录项

  • 公开/公告号CN212434601U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海韦尔半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN202021334387.1

  • 发明设计人 诸舜杰;岳瑞芳;董建新;钟添宾;

    申请日2020-07-08

  • 分类号H01L23/31(20060101);H01L23/367(20060101);H01L23/373(20060101);H01L23/492(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构44684 深圳睿臻知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张海燕

  • 地址 201210 上海市浦东新区龙东大道3000号张江集电港4号楼7楼

  • 入库时间 2022-08-22 19:24:25

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