公开/公告号CN212434601U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 上海韦尔半导体股份有限公司;
申请/专利号CN202021334387.1
申请日2020-07-08
分类号H01L23/31(20060101);H01L23/367(20060101);H01L23/373(20060101);H01L23/492(20060101);H01L29/78(20060101);
代理机构44684 深圳睿臻知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人张海燕
地址 201210 上海市浦东新区龙东大道3000号张江集电港4号楼7楼
入库时间 2022-08-22 19:24:25
机译: 共漏极双半导体芯片级封装及其制造方法
机译: 具有高漏-体击穿电压(Vb)的横向扩展漏极金属氧化物半导体场效应晶体管(LEDMOSFET),形成LEDMOSFET的方法以及结合有互补的一对LEDMOSFET的硅控整流器(SCR)
机译: 具有高漏-体击穿电压(Vb)的横向扩展漏极金属氧化物半导体场效应晶体管(LEDMOSFET),形成LEDMOSFET的方法以及包含LEDMOSFET的互补对的硅控整流器(SCR)