公开/公告号CN211728831U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-10-23
原文格式PDF
申请/专利权人 郑州安新磨具有限公司;
申请/专利号CN202020069365.0
申请日2020-01-13
分类号B24D13/14(20060101);B32B17/02(20060101);B32B17/12(20060101);B32B7/12(20060101);B32B3/12(20060101);B32B33/00(20060101);
代理机构34158 合肥方舟知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘跃
地址 450000 河南省郑州市二七区马寨镇日照路西、郑峪公路南
入库时间 2022-08-22 17:24:50
机译: 能够补偿卡盘平面误差的空白极紫外光辐射照相掩模,一种制造方法和一种具有后部抬升型前膜的基体
机译: 一种以其为基础的n型半导体层制造半导体基体的方法
机译: 一种在金属基体上的陶瓷型涂层的沉积工艺以及包括该工艺获得的涂层的元素