半导体检测装置、半导体检测系统及检测衬底温度的方法

摘要

一种半导体检测装置，其应用于半导体处理设备中，所述半导体处理设备包括反应腔体，所述反应腔体内设置有用以支撑衬底的支撑座，所述反应腔体具有腔体部件，所述支撑座设有用以定位衬底的若干腔体。所述半导体检测装置固定于所述反应腔体的腔体部件上，从而在衬底沉膜过程中能够实现对衬底温度的及时检测。所述半导体检测装置能够获知所述衬底的位置，并能够通过运动的方式对所述衬底进行检测，从而避免了现有技术中固定式探测器难以与衬底精确定位的问题。另外，本发明还揭示了由该半导体检测装置组成的半导体检测系统及用以检测衬底温度的方法。