一种集成离子蚀刻、多弧离子以及磁控溅射为一体的真空镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种集成离子蚀刻、多弧离子以及磁控溅射为一体的真空镀膜机，其包括真空室、设置在真空室内的磁控溅射镀膜单元、对称设置在磁控溅射镀膜单元两侧的工件支撑单元和弧源单元、以及设置在真空室上的等离子产生单元，工件支撑单元包括一转轴，转轴电气连接有一偏压电源件，真空室上设置有惰性气体输入管道、蚀刻气体输入管道以及排气管道，磁控溅射镀膜单元包括阴极电极柱、等角度分布在阴极电极柱圆周表面的若干磁控靶磁铁、将所有磁控靶磁铁包裹在内的铜背板以及将铜背板包裹在内的管状磁控靶材。本实用新型可以实现工件表面加热、离子蚀刻清洗、多弧离子镀膜与磁控溅射镀膜同时进行的功能，大大提高了镀膜质量和镀膜效率。