声明
摘要
第1章绪论
1.1本文研究的目的和意义
1.2多弧离子镀技术
1.3国内外研究现状
1.4研究目标和研究内容
1.4.1研究目标
1.4.2研究内容
第2章多弧离子镀膜机弧源结构与CFD理论
2.1电弧离子镀弧源的结构与发展
2.2 CFD基本理论
2.2.1控制方程
2.2.2湍流模型
2.2.3定解条件
2.2.4数值求解
2.3 CFD软件介绍
第3章数值模拟模型的建立与验证
3.1多弧离子镀膜机弧源部分的几何模型
3.2网格划分
3.3模型设置
3.4网格无关性
3.5模型验证
3.6模拟结果分析
3.6.1流场分析
3.6.2温度场分析
3.7本章小结
第4章不同边界条件对靶面温度场的影响
4.1不同温度的冷却水对靶面温度场的影响
4.2不同流速的冷却水对靶面温度场的影响
4.3铜套底面厚度对靶面温度场的影响
4.4弧源内部冷却水循环系统结构变化对靶面温度场的影响
4.4.1结构改进
4.4.2网格划分
4.4.3模拟结果分析
4.5本章小结
第5章弧斑运动对靶面温度场的影响
5.1弧斑在靶面上的运动规律
5.2模型建立
5.2.1网格划分
5.2.2模型设置
5.3模拟结果验证与分析
5.4本章小结
第6章结论与展望
6.1结论
6.2展望
参考文献
致谢
附录
东北大学;