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保证膜层沉积质量的方法、膜层沉积设备的每日监控方法

摘要

本发明提供了一种保证膜层沉积质量的方法,包括每天进行对膜层沉积设备进行气密性检测的步骤;其中,所述气密性检测的步骤包括:对所述膜层沉积设备进行抽真空;抽真空结束后的给定时间段内,使所述膜层沉积设备处于气密状态,检测膜层沉积设备的气压变化状况,记录下该时间段内的气压最大值;若所述气压最大值大于预定值,则将所述膜层沉积设备归为需维修设备。本发明还提供了一种膜层沉积设备的每日监控方法,所述每日监控方法包含上述的气密性检测的步骤。与现有技术相比,本发明改善了沉积膜层的质量,提高了产品合格率,且简单易行,几乎不需增加成本。

著录项

  • 公开/公告号CN102560405B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201210024584.7

  • 发明设计人 赵高辉;李春雷;牟善勇;张永刚;

    申请日2012-02-03

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人骆苏华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 09:41:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-29

    授权

    授权

  • 2014-07-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/54 申请日:20120203

    实质审查的生效

  • 2014-04-30

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C23C 14/54 变更前: 变更后: 登记生效日:20140408 申请日:20120203

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-07-11

    公开

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