首页> 中国专利> 半导体制造装置部件的清洗方法、半导体制造装置部件的清洗装置及气相生长装置

半导体制造装置部件的清洗方法、半导体制造装置部件的清洗装置及气相生长装置

摘要

在具备气体导入管(104)和气体排出管(105)的清洗装置(100)内配置附着有用通式Al

著录项

  • 公开/公告号CN103597583B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 古河机械金属株式会社;

    申请/专利号CN201280024377.X

  • 发明设计人 水田正志;矢口裕一;锦织豊;

    申请日2012-03-15

  • 分类号

  • 代理机构隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人张永康

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:41:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-08

    授权

    授权

  • 2014-03-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20120315

    实质审查的生效

  • 2014-02-19

    公开

    公开

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