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采用超大尺寸软膜模板进行大面积压印的纳米压印装置

摘要

本实用新型公开了一种采用超大尺寸软膜模板进行大面积压印的纳米压印装置,包括底座;工作台、导向柱,垂直设置在底座上;衬底,放置于工作台上,衬底上表面旋涂有压印胶层;模具夹持单元,设于导向柱上并且可沿导向柱上下移动;软膜夹具,设于模具夹持单元上;软膜模板,设于压印胶层上方,软膜模板与压印胶层相接触的面上设有微纳米压印图案,软膜模板一端与软膜夹具固定,软膜模板的另一端与工作台固定;压印装置,设于软膜模板上方,所述压印装置上设有压辊;UV固化装置,设于软膜模板上方并且可在软膜模板上方横向及纵向移动。本实用新型可在超大尺寸的非平整刚性衬底上实现均匀、高效、低成本制造,实现大尺寸刚性衬底的大面积纳米转印图形化。

著录项

  • 公开/公告号CN208766456U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-04-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 青岛天仁微纳科技有限责任公司;

    申请/专利号CN201821819846.8

  • 发明设计人 冀然;

    申请日2018-11-06

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 266000 山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室

  • 入库时间 2022-08-22 08:53:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-19

    授权

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