相移掩膜版及相移掩模光刻设备

摘要

本实用新型提供一种相移掩膜版及相移掩模光刻设备，相移掩膜版包括透明光刻板基板；透明光刻板基板的上表面包括沿预定方向延伸且交替排列的第一和第二透光区；第一透光区包括沿预定方向依次间隔交替排列的第一和第二相移区，第二透光区包括沿预定方向依次间隔交替排列的第四和第三相移区；光刻板基板的下表面包括多个沿预定方向延伸的不透光图形区，其同时部分遮蔽第一和第二相移区以及第四和第三相移区。透过第一与第二相移区的出射光束、第一与第三相移区的出射光束、第一与第四相移区的出射光束之间分别具有90、180度、270度的相位差，这样在晶圆表面形成的暗区图案为完全的暗区，提高了晶圆表面的光刻图形的图像分辨率。