法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-01-07
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/3065 授权公告日:20050921 终止日期:20131125 申请日:20021125
专利权的终止
2005-09-21
授权
授权
2003-12-17
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-10-08
公开
公开
机译: 等离子体评价方法,等离子体处理方法和等离子体处理装置。
机译: 等离子体评价方法,等离子体处理装置及等离子体处理方法
机译: 等离子体辐照处理装置,其评价装置和评价方法,其控制装置和控制方法以及膜的制造方法