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抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路

摘要

本实用新型公开一种抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路,该MOS包括衬底,衬底上表面的中部沉积有栅绝缘层,在栅绝缘层上有多晶硅或金属形成栅极,通过离子注入在衬底两端形成的源极和漏极,在栅极、源极与漏极上方沉积有隔离层,源极和漏极上方的隔离层刻蚀有用于引出源极和漏极的接触孔,在源极和漏极的接触孔上沉积有金属,漏极上的金属刻蚀有用于隔离源极和漏极的隔离缺口,源极上的金属直接延伸覆盖过有源沟道区。本实用新型提出的MOS管有效的遮挡了光线,抑制了光致漏电流的产生,既改善了晶体管的关态特性,也提高了有源寻址驱动电路的工作性能。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/78 授权公告日:20161214 终止日期:20190412 申请日:20160412

    专利权的终止

  • 2016-12-14

    授权

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