法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-06
避免重复授予专利权 IPC(主分类):E01B1/00 授权公告日:20160511 放弃生效日:20180306 申请日:20151121
避免重复授权放弃专利权
2016-05-11
授权
授权
机译: 具有用于浮置表面的功能的基板涂覆设备,具有基板浮置功能的基板对流设备以及用于将基板浮置的方法
机译: 形成衬底的浮置结构的方法以及制造浮置栅电极的方法和采用该浮置结构的场致发射器件
机译: 形成衬底的浮置结构的方法以及制造浮置结构栅电极的方法和采用该浮置结构的场致发射器件