公开/公告号CN204369969U
专利类型实用新型
公开/公告日2015-06-03
原文格式PDF
申请/专利权人 大连维钛克科技股份有限公司;
申请/专利号CN201420755357.6
申请日2014-12-05
分类号C23C14/22(20060101);
代理机构
代理人
地址 116113 辽宁省大连市甘井子区大连湾振兴路200号
入库时间 2022-08-22 00:37:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-06-03
授权
授权
机译: AI或AI合金真空腔室构件,表面处理方法和真空腔室构件材料(铝或其合金制成的真空腔室,以及真空腔室的表面处理和材料)
机译: 真空镀膜装置的支架旋转单元,即使工作人员未进入真空腔室,也能自动对两个透镜表面进行镀膜
机译: 真空镀膜设备和真空镀膜设备的处理室的分离装置