首页> 中文期刊>电子工业专用设备 >UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统设计

UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统设计

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

介绍了UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统的具体设计,通过合理选取预备室和反应室的真空泵组,满足了设备的超高真空要求,自动传输系统则保证了反应室高洁净环境、提高外延生产效率.

著录项

来源
《电子工业专用设备》|2013年第4期|9-11,33|共4页
作者
王慧勇; 魏唯; 宁宗娥;
展开▼
作者单位

中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙410111;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
自动传输系统; 预备室; 反应室; 超高真空;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. UHVCVD外延设备的热场设计 [J] . 李佳 ,魏唯 ,何华云 . 电子工业专用设备 . 2013,第005期
2. 采用高真空 /快速热处理 /化学气相淀积外延SiGe HBT结构(英文) [J] . 贾宏勇 ,林惠旺 ,陈培毅 . 半导体学报：英文版 . 2001,第3期
3. 基于WiFi传输的共享医疗设备实训室管理系统设计与实现 [J] . 钟伟雄 . 无线互联科技 . 2020,第014期
4. 光传输设备的自动化测试系统设计及应用 [J] . 刘宏宇 ,姜世明 ,陈周天 . 通信电源技术 . 2021,第002期
5. 某机载数据传输设备自动检测系统设计 [J] . 魏增辉 ,赵文俊 ,牛强军 . 电子测量与仪器学报 . 2008,第S2期
6. 紫外光辅助超高真空化学气相淀积低温外延生长SiGe/Si材料研究 [C] . 戴显英 ,胡辉勇 ,张鹤鸣 . 第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会 . 2003
7. 超高真空CVD外延生长SiGeC材料及性能研究 [A] . 王亚东 . 2001

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号