法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-15
避免重复授予专利权 IPC(主分类):B24B19/22 授权公告日:20131211 放弃生效日:20160615 申请日:20120625
避免重复授权放弃专利权
2013-12-11
授权
授权
机译: 光学圆柱表面的抛光方法,用于该抛光方法的抛光设备以及用于该抛光设备的抛光工具抛光设备
机译: 用于选择用于抛光终点检测的光的波长的图表的制造方法,用于选择用于抛光终点检测的光的波长的方法和设备,抛光终点检测方法,抛光终点检测设备以及抛光监测方法
机译: 用于选择用于抛光终点检测的光的波长的图表的制造方法,用于选择用于抛光终点检测的光的波长的方法和设备,抛光终点检测方法,抛光终点检测设备以及抛光监测方法