用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置

摘要

本实用新型所述的用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置由可调节密封连接装置、门板及靶体三部分组成；所述的可调节密封连接装置由轴、月牙螺母、绝缘套固定块、密封装置及弹簧组成，其中所述的密封装置包括上轴封压块、下轴封压块、支撑轴套、轴封及螺钉组成。本实用新型所述的装置避免真空室暴露大气，影响抽真空时间，实现在真空状态下调节，同时解决传统的垫块式调节的不连续性及膜层的纵向不均匀性的问题。