法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-03-06
避免重复授权放弃专利权 IPC(主分类):C30B25/08 授权公告日:20111130 放弃生效日:20130306 申请日:20110316
避免重复授权放弃专利权
2011-11-30
授权
授权
机译: 等温气相外延生长薄膜的容器
机译: 一种气相生长装置,一种用于制造外延晶片的方法,以及用于气相生长装置的附件
机译: 用于生产可用于激光二极管的铝-镓-氮单晶的氢化物气相外延工艺包括将具有卤素氢化合物的铝,镓和铟金属的混合物转化为卤化物