一种用于图案化集成电路层的微影系统和屏蔽组

摘要

本实用新型提出一种用于图案化集成电路层的微影系统和屏蔽组，所述微影系统包括一光源和一用于使用所述的光源图案化多重屏蔽层的屏蔽组，所述屏蔽组包括：一第一屏蔽，定义一第一屏蔽层中的微细线路特征；一第二屏蔽，用于移除或标定所述的微细线路特征的移除部分，此移除/标定可包括撷取所需布局(具有包括微细线路特征与粗略特征的至少一个布局特征)，且仅于沿着这些布局特征的临界维度的方向扩展布局特征；一第三屏蔽，用于在一第二屏蔽层中定义所述的集成电路层的多个粗略特征。所述的第二屏蔽层形成于一图案化的第一屏蔽层上。粗略特征可从所需布局使用收缩/成长操作而得。