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硅衬底上外延生长的铝镓铟磷发光二极管

摘要

本实用新型公开了一种硅衬底上外延生长的铝镓铟磷发光二极管,该发光二极管的外延结构采用硅衬底,在硅衬底上由下至上依次包括砷化镓低温缓冲层、砷化镓高温缓冲层、DBR反射层、铝镓铟磷下限制层、多量子阱发光区、铝镓铟磷上限制层、电流扩展层。本实用新型解决了硅衬底和铝镓铟磷发光层之间的热膨胀系数失配问题,在硅衬底上直接外延生长外延材料,由于硅的热导率(145.7W/m.K)是砷化镓衬底热导率(44W/m.K)的3.3倍,从而可以提高其大电流工作能力。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L33/00 授权公告日:20100127 终止日期:20130429 申请日:20090429

    专利权的终止

  • 2010-01-27

    授权

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