公开/公告号CN201242376Y
专利类型
公开/公告日2009-05-20
原文格式PDF
申请/专利权人 中国石化集团南京设计院;
申请/专利号CN200820038378.0
申请日2008-07-15
分类号
代理机构南京天华专利代理有限责任公司;
代理人徐冬涛
地址 210048 江苏省南京市六合区大厂葛关路268号
入库时间 2022-08-21 23:03:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-07
专利权有效期届满 IPC(主分类):F28D7/10 授权公告日:20090520 申请日:20080715
专利权的终止
2013-02-27
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):F28D7/10 变更前: 变更后: 申请日:20080715
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2009-05-20
授权
授权
机译: CVD CVD CVD反应器和用于CVD反应器的基板支架
机译: 在CVD反应器中和在CVD反应器中在衬底上沉积层的方法,该CVD反应器具有在带中延伸的气体入口区
机译: MOCVD反应器喷头,MOCVD反应器,MOCVD设备及清洗方法