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CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置

摘要

一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置,包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用以计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构,激光器通过光纤连接发散透镜,发散透镜的出射光学范围覆盖晶圆下的液体薄膜,分光镜位于晶圆的上方,分光镜的两个出射方向设有两个滤光片,每个滤光片与各自摄像头相对,摄像头与计算机数据连接,计算机包括用以计算得到两种荧光强度后,将其比值作为相对荧光强度,计算得到厚度、温度和pH值的中间变量测量模块。本实用新型能够对CMP过程中晶圆下中间变量(如厚度、温度、pH值)进行有效测量。

著录项

  • 公开/公告号CN201178090Y

    专利类型

  • 公开/公告日2009-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN200820082096.0

  • 发明设计人 袁巨龙;楼飞燕;郑晓锋;

    申请日2008-01-11

  • 分类号

  • 代理机构杭州天正专利事务所有限公司;

  • 代理人王兵

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区浙江工业大学

  • 入库时间 2022-08-21 23:01:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-03-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/00 授权公告日:20090107 终止日期:20140111 申请日:20080111

    专利权的终止

  • 2009-01-07

    授权

    授权

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