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一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量方法

摘要

一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量方法,包括以下步骤:(1)、在抛光液中加入荧光物质,并将抛光液输送到抛光机的抛光垫和晶圆之间,形成液体薄膜;(2)、开启激光器照射所述液体薄膜,所述液体薄膜受到激发后产生荧光;(3)、液体薄膜发出的荧光通过滤光片传送到摄像头进行荧光信息的采集;(4)、将摄像头采集的荧光图像进行图片处理,计算得到荧光强度,依照荧光强度与厚度的对应关系得到液体薄膜的厚度;依照荧光强度与温度的对应曲线得到液体薄膜的温度;依照荧光强度与pH值的对应曲线得到液体薄膜的pH值。本发明能够对CMP过程中晶圆下中间变量(如厚度、温度、pH值)进行有效测量。

著录项

  • 公开/公告号CN101266915A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN200710164622.8

  • 发明设计人 袁巨龙;楼飞燕;郑晓锋;

    申请日2007-12-25

  • 分类号H01L21/00(20060101);B24B49/12(20060101);

  • 代理机构33201 杭州天正专利事务所有限公司;

  • 代理人王兵;王利强

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区

  • 入库时间 2023-12-17 20:49:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/00 公开日:20080917 申请日:20071225

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2008-11-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-17

    公开

    公开

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