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具有双层锥形结构的刻蚀衍射光栅

摘要

本实用新型公开了一种具有双层锥形结构的刻蚀衍射光栅,包括至少一条输入波导、一个自由传输区(FPR)、一个蚀刻凹面光栅和至少一条输出波导,输入波导/输出波导均与FPR相连,蚀刻凹面光栅与FPR连成一体;至少一条输入波导从输入到输出由浅刻蚀区域、双层锥形结构组成;至少一条输出波导从输入到输出由双层锥形结构、浅刻蚀区域组成。本实用新型采用双层锥形结构来解决了传统的基于SOI脊型波导的波分复用器存在的插入损耗、通道串扰等问题。本实用新型便于与其他集成光波导器件连接,消除了垂直方向的多模干涉问题,不增加额外的工艺过程,弯曲部分可为深刻蚀,从而减小器件尺寸,提高集成度。

著录项

  • 公开/公告号CN2809664Y

    专利类型

  • 公开/公告日2006-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN200520013804.1

  • 发明设计人 戴道锌;何赛灵;

    申请日2005-08-04

  • 分类号

  • 代理机构杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人林怀禹

  • 地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号

  • 入库时间 2022-08-21 22:51:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-10-12

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B6/124 授权公告日:20060823 终止日期:20100804 申请日:20050804

    专利权的终止

  • 2006-08-23

    授权

    授权

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