法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-11-06
专利权有效期届满 IPC(主分类):B01D53/78 授权公告日:20040929 期满终止日期:20130924 申请日:20030924
专利权的终止
2004-09-29
授权
授权
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种脱硫脱硝装置副产物的处理方法