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隔膜电解槽盐水补充装置

摘要

隔膜电解槽盐水补充装置,利用阴极室含碱溶液,制取饱和精盐水,补充给二氧化氯复合消毒剂发生器在电解中消耗的氯化钠,以免隔膜被堵塞。装置属二氧化氯技术领域。装置的碱液输入接口,溢入阴极室的含碱溶液,溶盐、沉淀,制得饱和精盐水;精盐水由接口输出,流入电解槽,补充其在电解中消耗的氯化钠,且使电解槽液位升高,导致阴极室溢出含碱溶液,引发装置各池顺序溢流,这就构成了盐水补充装置与电解槽的互动闭合系统。此系统结构简单、紧凑,可与电解槽融合成一体,体积小,成本低,管理使用方便,可避免隔膜被堵塞,保障电解槽持续正常运行。

著录项

  • 公开/公告号CN2526330Y

    专利类型

  • 公开/公告日2002-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杨力;

    申请/专利号CN01259211.0

  • 申请日2001-09-03

  • 分类号C25B15/08;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100039 北京市海淀区复兴路79号608楼三单元一层六号

  • 入库时间 2022-08-21 22:44:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-11-01

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2002-12-18

    授权

    授权

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